• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 小形流量コントローラ ラピフロー(R)FCMシリーズ 製品画像

    小形流量コントローラ ラピフロー(R)FCMシリーズ

    水素、ヘリウムに対応した小形流量コントローラ

    バルブ機能をユニット化し、必要な流量のコントロールをする機器です。 IO-Linkにも対応し、工場の更なるIoT化に貢献します。 【適応流体・流量範囲】 空気、窒素:0.015~50ℓ/min アルゴン:0.015~50ℓ/min 酸素、都市ガス、メタン、プロパン:0.015~10ℓ/min 水素、ヘリウム:0.06~20ℓ/min...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • カルマン渦式流量センサフルーレックス 「WFK2シリーズ」 製品画像

    カルマン渦式流量センサフルーレックス 「WFK2シリーズ」

    IO-Link対応のカルマン渦式水用流量センサフルーレックス WFK2…

    【特長】 ■かんたん流量調整:0.4〜250L/minと幅広い流量レンジに対応 ■水温測定機能:水温センサを別途設置する必要が無く、設置スペース、配線工数を削減 ■IO-Link対応:パラメータやイベントデータの伝送可能 ■半導体製造装置の冷却...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

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