除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

小形流量コントローラ ラピフロー（Ｒ）FCMシリーズ

水素、ヘリウムに対応した小形流量コントローラ

バルブ機能をユニット化し、必要な流量のコントロールをする機器です。 IO-Linkにも対応し、工場の更なるIoT化に貢献します。 【適応流体・流量範囲】 空気、窒素：0.015~50ℓ/min アルゴン：0.015~50ℓ/min 酸素、都市ガス、メタン、プロパン：0.015~10ℓ/min 水素、ヘリウム：0.06~20ℓ/min...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

中形メインラインフィルタ AF2シリーズ

省エネ・低圧損・長寿命を追求

処理空気量：4.95～24.1㎥/min(ANR) 使用流体：圧縮空気 使用圧力：0.1～1.0MPa...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

カルマン渦式流量センサフルーレックス 「WFK2シリーズ」

IO-Link対応のカルマン渦式水用流量センサフルーレックス WFK2…

【特長】 ■かんたん流量調整：0.4〜250L/minと幅広い流量レンジに対応 ■水温測定機能：水温センサを別途設置する必要が無く、設置スペース、配線工数を削減 ■IO-Link対応：パラメータやイベントデータの伝送可能 ■半導体製造装置の冷却...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社