• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 4K GM冷凍機『UHE10』 製品画像

    4K GM冷凍機『UHE10』

    極低温冷凍機で先端産業、研究開発のご期待にお応えいたします!

    30HVRT ■冷却方式:水冷式 ■電源定格  ・AC200V×3φ×50Hz  ・AC220V×3φ×60Hz ■消費電力:5.8/7.2kW(50Hz/60Hz) ■冷却水:9L/min(20℃) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アルバック・クライオ株式会社

  • 4K GM冷凍機『UHE15』 製品画像

    4K GM冷凍機『UHE15』

    極低温冷凍機で先端産業、研究開発のご期待にお答えいたします!

    30HVRT ■冷却方式:水冷式 ■電源定格  ・AC200V×3φ×50Hz  ・AC220V×3φ×60Hz ■消費電力:5.8/7.2kW(50Hz/60Hz) ■冷却水:9L/min(20℃) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アルバック・クライオ株式会社

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