• リアルタイムPCRシステム もっと身近に!お手軽に! 製品画像

    リアルタイムPCRシステム もっと身近に!お手軽に!

    PR【キャンペーン実施中!】高価で導入ハードルが高かったリアルタイムPCR…

    『LineGene MiniS』は、進化した“Scanning Technology”により、 卓越したSN比を実現したリアルタイムPCRシステムです。 タッチパネルを採用し、簡便な操作性。精巧かつコンパクトで スタイリッシュな外装で、耐久性の高い構造となっております。 “Automatic Gain Function”により、精確かつ信頼性の高い データ取得が可能です。 【特長】 ■先端の“...

    メーカー・取り扱い企業: バイオアライフサイエンスジャパン株式会社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ300mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220 製品画像

    高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

    必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…

    mm 最大到達温度 250℃ 加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱) 温度制御方式 P.I.D.制御方式 プレート上面内温度差 設定温度に対して±1.5%以内 最大昇温速度 25K/min.(※対象物の熱容量に因る) 最大降温速度 10K/min.(※対象物の熱容量に因る) 窒素ガス 0.35~0.4 MPa(3.5~4 bar) プロセスガス供給ライン 手動ガス流量計 コ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 除塵 ロールtoロール RUTRシリーズ 製品画像

    除塵 ロールtoロール RUTRシリーズ

    御社仕様のユニットローラーをご提案いたします。

    々なご要望に対応可能。 ■当社実績で2,600mmのユニットローラーを製作可能。 ■原反材料工程やスリッター工程等の長尺製品にも対応可能。 ■構造強化により製品への密着性を高め実績250m/minまでの高速流動にも対応可能。 ※サンプルを預かり除去可能かのデモ評価も承っております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 標準タイプクリーンローラー『RYシリーズ』 製品画像

    標準タイプクリーンローラー『RYシリーズ』

    インラインにもアウトラインにも好適な除塵装置です。 2連から5連まで…

    05B  ・サイズ:W308×D1185×H1265±50mm  ・重量:140Kg  ・クリーニング有効幅:640mm  ・対象ワーク厚:0.1~2.0mm  ・搬送速度:0~18m/min(可変)   ・パスライン:950±50mm  ■クリーンローラーRY-505Z  ・サイズ:W308×D920×H1,265±50mm  ・重量:120kg  ・クリーニング有効幅:6...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    100 x 100mm ■加熱方式:IRヒーター ■最大到達温度:1200℃ ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/sec. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):190K/min.(T=1200℃>400℃) ■冷却方式:窒素ガスパージ方式 ■真空到達度:10-1Pa ※HVモデルは 10-3Pa ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • セラミック基板 2D/3D自動外観検査装置 製品画像

    セラミック基板 2D/3D自動外観検査装置

    セラミック基板の高精度・高速自動外観検査を実現!高精度3D欠陥検査搭載…

    着・汚れ/変色・⽋け、キズ・ダレ  3D⽋陥:膨れ・凹み ■ユーティリティ ■供給電源:1Phase AC100V±10% 2KVA ■供給エア:0.39MPa or more 100L/min or more ■装置サイズ:1,500(W)×1,500(D)×2,000(H)mm ■装置重量:約1,200kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • イメージセンサ用 高精度6面2次元外観検査装置 製品画像

    イメージセンサ用 高精度6面2次元外観検査装置

    検査自動化により、目視検査レスを実現!イメージセンサの全6面微細欠陥検…

    高精度欠陥検査ユニットを搭載した高精度6面2次元外観検査装置。 監視カメラ用挿入型、DSC用SMT型などのイメージセンサ各種の 全6面微細欠陥検査ができます。 オリジナルシームレス、7チャンネル、マルチアングル照明で好適な照明環境のなか、 Min10msec/イメージ処理で検査モード毎に複数枚を一括取り込みが可能。 最大25Mpixカメラによる高分解能と高解像度で検査します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • パワーデバイスチップ用 外観検査装置 製品画像

    パワーデバイスチップ用 外観検査装置

    欠陥検査を高精度で自動化!全6面検査自動化により、目視検査レスを実現!…

    :クラック、バリ、異物付着、キズ、スクラッチ、変色、シミ、汚れ等 ■ユーティリティ ・供給電源:3PhaseAC200V±10%5KVA ・供給エア:0.39MPa or more100L/min or more ・装置サイズ:2,420(W)×1,930(D)×2,000(H)mm ・装置重量:約2,200kg                              ※詳しく...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ICパッケージ自動外観検査装置『LI700E』 製品画像

    ICパッケージ自動外観検査装置『LI700E』

    省スペースでICパッケージの自動化を実現!高精度2次元&3次元寸法計測…

    装置重量:約900kg ■処理能力:1,000uph(3.6sec/個) ■供給電源:三相AC200V±10% 4KVA ■供給エアー:0.39MPa以上(4kgf/cm2以上) 200L/min(ドライエアーのこと) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 『非接触式クリーナー 除塵装置』 ※デモ実施可能 製品画像

    『非接触式クリーナー 除塵装置』 ※デモ実施可能

    【必見‼】異物除去でお困りの方。 「プリント基板・金属箔・PET…

    ◆非接触式の優位性 極力、接触させたくないデリケートな素材や接触式(特にロール)では困難だった凹凸部のクリーニングが可能です。また非接触式の為、ワークへの影響を最小限に抑えられます。 ◆低ランニングコスト ドライ洗浄方式の為、水・薬液の交換や高コストなインフラ整備が不要です。 また主な消耗品はフィルタのみで低ランニングコストを実現しました。 ◆用途:プリント基板や金属箔、PETフ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):600K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):240K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントロー...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ100mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):180K/min.(T=450℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(3.5~4...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

    フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントロー...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    ター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):100K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):100K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントロー...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1.5%以内 ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=300℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    x 300mm ■加熱方式:クロス配列IRヒーター ■最大到達温度:1000℃ ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):75K/sec. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):190K/min.(T=1000℃>400℃) ■冷却方式:窒素ガスパージ方式 ■真空到達度:10-1Pa ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-700) ■プロファイ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    ス配列IRヒーター ■最大到達温度:1000℃ ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):75K/sec. ※EPモデルは150K/sec. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):190K/min.(T=1200℃>400℃) ■冷却方式:窒素ガスパージ方式 ■真空到達度:10-1Pa ※HVモデルは 10-3Pa ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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