除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

平行移動型メカハンド　HP09Rシリーズ

リニアガイドを採用した　高剛性・高精度メカニカルハンド　

●作動方式：常時開単動（開時外力駆動） ●使用周囲温度：０～１２０℃ ●最高使用頻度：１８０Cycle/min ●センタリング精度：±０．０７mm ●繰返し精度：±０．０１ｍｍ ●呼び径　：８・１０・１６・２０ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニューエラー

着脱式平行移動型リニアハンド　HP04DRシリーズ

ワンタッチ式フィンガーチェンジャー ベアリングをワンタッチで着脱可能…

作動方式：複動 ベアリング着脱方法：手動 シリンダ内径：Φ１０・１６・２０ 最高使用頻度：１２０Cycle/min センタリング精度：±０．０７ｍｍ 繰返し把持精度：±０．０１ｍｍ 繰返し着脱精度：０．０５ｍｍ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニューエラー