【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー

試料を均一に加熱できる1200 ℃高温チャンバー 自社装置はもち…

非接触加熱方式のオーブンヒーターにより試料を均一に温度制御できます。 サンプル回転オプションを装着すれば、反射配置の回折データ品質が向上し、プロファイルフィッティングがやりやすくなります。温度センサーは保護⽤セラミックサンプルホルダー内の試料の真下に配置されており、信頼性が⾼く再現性のある温度測定を保証します。 キャピラリーエクステンションを使⽤すると、透過配置での測定が可能になります...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー

最高温度2300℃まで加熱可能な超高温チャンバー 自社装置はもちろん、…

最高2300 ℃まで試料を加熱できる超高温チャンバーです。 ストリップヒーター材質によって最高温度と測定雰囲気が異なります。 タングステンヒーター: max 2300℃(真空) 白金ヒーター: max 1600℃(真空、空気) タンタルヒーター: max 1500℃(真空、空気) ヒーター上に試料を乗せて直接加熱する方式を採用しており...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー

-190℃～600℃で温度制御できる中低温チャンバー 自社装置はもちろ…

-190℃～600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。 液体窒素を使用して-190℃～600℃の温度制御を行うことができます。（圧縮空気のみの冷却では-20℃～600℃） グローブボックス内でアンティチェンバーへ試料をマウントすれば、試料を大気曝露せずにチャンバー本体に装着してすぐに測定開始できます。吸湿性のある試料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン