コーティング装置『IK-1000』

金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置！

『IK-1000』は、金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に 適した装置です。 高真空雰囲気中において、ターゲット（成膜材料）を陰極、アノード（陽極） との間で真空アーク放電を発生させ、成膜材料を蒸発、イオン化し、 基材に負バイアス電圧を印加することで、プラズマ中にイオンを引き付けて 成膜を行います。 また、テストピースの試作など、研究開発用途に適した「IK-50...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターフェイス

受託加工『Ta-CX』

超高硬度な水素フリー(水素を含まない)DLCコーティング！

『Ta-CX』は、電磁式アークカソードを利用したダイヤモンド構造を多く含む、 超高硬度な水素フリー(水素を含まない)DLCコーティングです。 アークイオンプレーティング方式により高い密着性を有し、 独自開発のドロップレット(マイクロメートルレベルの突起物)を低減する 機構を備えることで、基材の表面と同等で平滑な表面が得られます。 切削工具や金型の寿命を著しく向上させ、特にアルミニ...

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受託加工『PVD-GTコーティング』

NEW！セラミックコーティング！ALCrSiN多層膜！

『PVD-GTコーティング』は、耐クレーター摩耗用に開発された 新しい被膜です。 高速で加工される工具、鉄系の打抜きポンチなどに適用することで 寿命を伸ばします。 主に、高速加工用工具、鉄系加工パンチ、一般鋼材工具などに適しています。 【特長】 ■イオン化率が高い ■緻密な密着の優れた被膜 ■SCM420に対して切削長500m超えても摩耗量は5μm以下 ■摩耗深さはT...

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受託加工『HCD-GTコーティング』

AIPに比べ硬さが高く緻密な結晶の硬質膜！

『HCD-GTコーティング』は、HCD-GTホローカソード方式によってつくられる AIPに比べ硬さが高く緻密な結晶の硬質膜です。 この膜は、平滑で靭性に優れています。 また、当社ではAIP-GTアークイオンプレーティング方式によってつくられる 硬くて柱状晶で、低摩擦、かこくな環境下での使用に耐えることができる 「AIP-GTコーティング」も可能です。 【特長】 ■AIPに...

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受託加工『CVD-SiCコーティング』

高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。 【特長】 ■高硬度 ■優れた耐熱性 ■優れた耐磨耗性 ■半導体特性を有する ■半導体装置部品等にも適応可能 ※詳しくはカタロ...

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表面処理『MAD処理』

表面改質だけで硬度・撥水性・耐食性が向上！剥がれない表面処理

『MAD処理』は、当社独自のプラズマ方式の表面改質処理です。 当処理によって、母材表面への増速拡散作用による硬化処理を行った結果、 母材寸法のゆがみ、ひずみをおこさない200°C以下での低温処理で硬度を 上げる事に成功しました。 素材(合金)の表面部、内部構造を再構築し、素材の持つ特性を最大限に 引き上げ、硬度・離型性・耐食性を大幅に向上します。 【特長】 ■剥がれない2...

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受託加工『BHコート』

当社開発の特殊なプラズマ合成により開発された新しい超硬質薄膜！

『BHコート』は、当社開発の特殊なプラズマ合成により開発された新しい 超硬質薄膜です。 色調は、dark blue～blackを示します。 硬度は、ダイヤモンドに近くDLCの硬度と比較すると20％～40％ 上がっています。 また、密着強度は、TiNと同等の強度を示し、摩擦係数もDLCより低く なっています。 【特長】 ■色調は、dark blue～blackを示す ■ダイ...

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【受託加工】水素フリー『DLC-GTコーティング』

表面粗さ0.004μm！優れた表面平滑性を実現したコーティング

『DLC-GTコーティング』は、アークイオンプレーティングの弱点である ドロップレット（マイクロメートルレベル）を大幅に低減し、優れた 表面平滑性を実現したコーティングです。 基材の表面粗さを損なうことなく、金型やアルミニウムなどの軟質金属の 加工工具に効果を発揮します。 ガラスレンズ成形金型のような超鏡面への適用も可能です。 【特長】 ■アルミ、銅加工の耐凝着対策に有効...

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