フレキシブル局所排気システム「SDシステム」【作業環境を実現！】

PR作業場等で発生する臭い、ガス、微塵、煙をシャットアウトしクリーンな作業…

SDシステムは、薬品等の取り扱い時に発生するガス、煙、有害な煙霧、 悪臭、微塵などを作業者が吸引しないように、作業所内に拡散しないように する為に発生局所から吸引するダクトです。用途、取付場所、作業性に 合わせて自由に組み合わせて使用可能です。 ダクトの径はφ50mm、φ75mm、φ100mmが有り、吸引風量により選定 できます。ダクトがアルミ製の標準タイプ、PP製の耐薬品性タイプ、...

メーカー・取り扱い企業： 日本ブロアー株式会社

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

フッ素と窒素の混合ガス

フッ素と窒素の混合ガス

フッ素と窒素の混合ガスはファインケミカル分野の重要な原料であり、エレクトロニクス、レーザー技術、医療、プラスチックなどに広く使用されている。...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

電子グレードの高純度六フッ化硫黄は、理想的な電子エッチング剤であり、マイクロエレクトロニクス技術の分野で広く使用されている。 冷凍業界では冷却剤として使用され、冷却範囲は-45℃～0℃である。 電気産業では、その高い絶縁耐力と優れた消弧特性を利用して、高電圧スイッチ、大容量変圧器、高...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている，例え...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

CXFL-43 （3M FC-43代替品)

Perfluorotri-N-Butylamine  CXFL-43…

chemical vapor deposition, and TFT production in the electronics and semiconductor industries. エレクトロニクスおよび半導体産業における検出、化学蒸着、TFT 製造に適しています ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO