• シリコンウェーハ向け研磨スラリー『Nanopureシリーズ』 製品画像

    シリコンウェーハ向け研磨スラリー『Nanopureシリーズ』

    シリコンウェーハの1次・2次・仕上げ・エッジ研磨用のスラリー

    『Nanopure(TM)シリーズ』は、ニッタ・デュポン株式会社が製造する 高品質なシリコンウェーハ用ポリッシングスラリーです。 高平坦性、低欠陥、高生産性などの優れた研磨性能を安定して発揮します。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【概要】 ■シリコンウェーハの1次・2次及びFinal研磨...

    メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社

  • 酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』 製品画像

    酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』

    酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー

    『ILD(TM)シリーズ』は、ヒュームドシリカを用いた酸化膜CMPスラリーです。 一般的なコロイダルシリカスラリーでは実現困難な高研磨レートと スクラッチフリー・不純物低減を実現した業界標準のスラリーで、 ガラスエポキシ研磨にもご使用いただけます。 【概...

    メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社

  • 各種基板向け研磨スラリー『Machplaner(TM)シリーズ』 製品画像

    各種基板向け研磨スラリー『Machplaner(TM)シリーズ』

    ニッタ・デュポン株式会社が製造する高品質な国産スラリー

    『Machplaner(TM)シリーズ』は、さまざまな基板に効果的な 万能スラリーです。 当社では、各種難研磨物への高研磨レート等、お客様のニーズを 満たすラインアップを取り揃えています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【概要】 ■高品質な表...

    メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社

  • 独立発泡ウレタンパッド 製品画像

    独立発泡ウレタンパッド

    デバイスウェーハのCMPプロセスにおける業界標準品

    当社では、デバイスCMPにおける業界標準のウレタンパッドを 取り扱っております。 特殊ポリウレタン材料をベースに、高均一な微小発泡を持つユニークな 構造はスラリーをうまく保持しながら、被加工物へ均等に行き渡らせ、 優れた加工均一性を発揮します。 また、高い段差緩和性能と低スクラッチ性能も実現します。 【ラインアップ】 ■各種基板の高平坦化に...

    メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社

1〜4 件 / 全 4 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。