レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

【仕様】 ■真空排気：ターボポンプ ■ヒーター：SiC　MAX1200℃ ■水冷：外周蛇管　上フランジジャケット ■外寸：φ360 x 500H ■内面処理：電解研磨 ■ガスケット：金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材質：SUS31...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック