分光エリプソメーター GES5E

薄膜光学特性を非破壊で測定！ 手軽に高精度測定できる分光エリプソメト…

理特性】 ○膜厚と光学屈折率(n,k)　○屈折率の勾配と材料組成 【アプリケーション】 ○半導体　○シリコン、有機、化合物半導体　○太陽電池　○有機EL　○LED　○ポリマー　○フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）　○医療、バイオ　○ＰＥＴフィルム　○燃料電池　○グラフェン 【仕様】 ○波長範囲：190nm-2400nm　○測定スピード：全波長範囲　1秒～ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

非接触CV測定装置 Cn0CV

非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置。 鉄濃度測定の感度はD…

定可能（SLモデル） ■PDM 【主な測定・評価項目】 ■汚染管理 -DSPVによる拡散長測定 -鉄濃度測定（E8レベル） ■膜評価 - 電気的膜厚（CET/EOT) - フラットバンド電圧（VFB) - 界面準位等（Dit)の測定 - リークIV測定 - Epi抵抗率測定 - High-k評価 - Low-k評価...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

薄膜太陽電池パネル測定装置

薄膜太陽電池パネル測定装置

フラットパネルディスプレイ製造マーケットでは、品質管理用途にて非常に多くの実績がございます。...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

FastGateインライン向けＣＶ・ＩＶ測定装置ECV-2500

FastGate　インライン向けＣＶ・ＩＶ測定装置

ング、極薄酸化膜（<20Å）の電気的膜厚測定 SiON 膜，High k膜の誘電率測定、Epi の 抵抗率測定などが可能です。 主な測定・評価項目 ・電気的膜厚（CET/EOT) ・フラットバンド電圧（VFB) ・界面準位等（Dit)の測定 ・リークIV測定 ・USJ（40nm以下）の低ドーズイオン注入量モニタリング ・Epi抵抗率測定 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社