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GaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。
本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。 常温乾式除害と触媒分解式除害を効率よく組み合わせ、メンテナンス性向上、 ランニングコスト及び環境負荷の低減を可能に致しました。 【特長】 ・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。 ・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的か...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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エッチングプロセス用の湿式除害装置です。
下まで除去することが可能です。 【特長】 ・吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。 ・水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。 ・水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。 ・気液接触部での詰まりが少ない構造です。 ・吸着筒の自動交互運転により連続除害が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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