• CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』 製品画像

    CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

    PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素(N2)」を精製!もう大規模な設備…

    『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • Luminex xMAP INTELLIFLEX System 製品画像

    Luminex xMAP INTELLIFLEX System

    PR【キャンペーン実施中】迅速でコストパフォーマンスに優れたイムノアッセイ…

    Luminex xMAP INTELLIFLEX Systemは、コンパクトで広いダイナミックレンジを実現します。タッチスクリーンのユーザーインターフェースを備え、スタートアップ、シャットダウン、メンテナンスが自動化されているため使いやすく、メンテナンスも簡単。この他、2つのパラメーターで測定可能なDR-SEモデルをはじめ、Luminex 200 Instrument System、Luminex...

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    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • 4波長高出力レーザーエンジン 『iChrome MLE』 製品画像

    4波長高出力レーザーエンジン 『iChrome MLE』

    MLE は異なる3つの波長の半導体レーザと1台のDPSS レーザーをコ…

    ・Pレーザー顕微鏡、フローサイトメトリに最適 ・マルチラインレーザ: 最大4レーザーライン ・COOLAC – ハンズフリー, 自動アライメント機能 ・直接強度変調20MHz ・µ-Manager ...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

  • DUV CW深紫外半導体レーザーシステム 製品画像

    DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

    193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

    トプティカ社の深紫外半導体レーザーシステムはリソグラフィー、光学テスト&検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。 本レーザシステムはFHG発生技術を用いて19...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

  • 405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザー 製品画像

    405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザ

    405nm、1Wの高出力で単一周波数発振を実現。ハンドリングが容易な連…

    Holo-Litho 405はホログラフィおよびリソグラフィ用途で一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr イオンガスレーザー(406.7 nmおよび413.1 nm)の代替品として理想的なCWレーザーシステムです。「オール半導体」方式を採用したHolo-Litho 405は消費電力が0.08 W以下であり水冷機器を一...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

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