除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

NEWマイクロミックス＜真空加熱(冷却)式＞【※試せます】

PRトリプル回転機構を採用！目的に応じたオプション製作も可能で、テスト対応…

『NEWマイクロミックス』は、臼の回転とは逆方向に公転する杵と 自転する杵先により、効率の良い撹拌、混合、すり潰しが可能な 真空加熱(冷却)式の製品です。 独自の回転スクレーバーによって粉砕効率も大幅アップ。 また、真空ポンプを搭載することで、容器内を減圧した状態で 撹拌ができます。 【特長(主な機能)】 ■「トリプル回転機構」により、効率の良い攪拌・粉砕・混合が可能 ■原料を運び込みながら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤナギヤ 東京営業本部

ズームレンズ位置決め用５軸ステージ

真空機器内の観察対象物を見るために、ズームレンズの細かい姿勢・位置決め…

基本仕様 各軸仕様 X：12.5mm（クロスローラ） Y：12.5mm（クロスローラ） Z：5mm（クロスローラ） 角度：±15°（アリ溝） 遠近：±15mm（ラック＆ピニオン）...

メーカー・取り扱い企業： ツクモ工学株式会社 本社工場

ナノ表面粗さ・形状計測器『ナノセブン TN-A1』

ウエハーの検査に好適！サブナノレベル表面の粗さ・形状を計測します

【製品仕様】 ■計測方式：光ヘテロダイン干渉計測 ■高さ分解能：0.1nm ■基準高さ測定範囲：0.5～300nm ■標準移動量：X軸25mm/Y軸25mm ■光源：赤色レーザー（633nm） ■...

メーカー・取り扱い企業： ツクモ工学株式会社 本社工場

小型3軸ステージ

手のひらに収まるほど小型の3軸位置決めステージです。

1軸ステージ仕様 外寸：L26.4×W11.2×H5.1 移動量：3.2/5.6mm ねじピッチ：0.32mm 自重：2.5-3ｇ...

メーカー・取り扱い企業： ツクモ工学株式会社 本社工場