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10件 - メーカー・取り扱い企業
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棄てるという概念を捨てる、卵の殻を利用した『卵からラベル(R)』
PRバイオマスプラスチックフィルムに粘着(糊)加工を施したシール・ラベルの…
国民一人当たりの年間消費量340個、世界第2位の “鶏卵消費大国” 日本。 その殻は「年間20万トン」が廃棄されています。 中でも業務・加工用に使用された鶏卵の殻は、産業廃棄物として処理されていますが、 昨今は “天然の炭酸カルシウム” として肥料や食品原料などへの再利用が進んでいます。 この卵殻を微粉末化し、51%の割合でプラスチック素材と混ぜ合わせた バイオマスプラスチック...
メーカー・取り扱い企業: シーレックス株式会社
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PR作業環境、作業効率を大きく改善、珪藻土による吸着効果を付加した機能紙で…
研究開発・製造で活躍する濾紙・濾過器を豊富に取り揃える弊社では、 濾材に珪藻土とセルロースを使用した『濾過板』を取り扱っています。 除粒子、除菌濾過、パイロジェン除去などに対応した高い吸着効果と 内部捕捉効果が特長で、「NA標準タイプ」をはじめ、不純物の含有が少ない 「NRPタイプ」、長寿命な「NAロングライフタイプ」などをラインアップ。 オートクレーブ滅菌、温水殺菌、薬剤殺菌にも対応可能です。...
メーカー・取り扱い企業: アドバンテック東洋株式会社
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エナメル電線皮膜を剥離することが可能!塩素系、アミン系の溶剤を含有して…
『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:30~120分 ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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創立以来60年間蓄積された技術と知見でニーズにお応えします
株式会社三若純薬研究所は、ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、 受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカーです。 脱脂剤、剥離剤、表面処理剤や酸系の金属処理液など、お客様の ニーズにお応えする最適な製品を提案致します。 また、受託システムでは、お客様のご要望の数だけの製品数を少量~中量 の商業生産をも可能にし、理想的なソリューションをご提供します。 【自社ブランド製...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能!
『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶/ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【そ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他の特長】 ■対象...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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