排水処理システム『排水処理膜ろ過システム』

PR二次汚染物が発生せず、豊富な排水処理実績を誇る排水処理システム！

『排水処理膜ろ過システム』は、ダイオキシン・重金属を除去する 排水処理システムです。 処理水は、繊細な超高圧ポンプにそのまま再利用でき、放流可能な レベルまで処理が可能です。 定期的に自動逆洗浄する機能がついている為、安定して高度な処理 水質を得ることができます。 また、焼却施設解体工事での環境負荷の低減・最終処分費の大幅コスト 削減に貢献します。 【特長】 ■環...

メーカー・取り扱い企業： セントラルフィルター工業株式会社

CSTのCUT＆Tag関連製品

PRクロマチンプロファイリングがCUT&Tagでより迅速に！

Cleavage Under Targets & Tagmentation (CUT&Tag) は、より迅速かつ低コストな、ChIP-seqの代替となる解析方法です。ChIP-Seqと比べて必要な細胞数が少なく、CUT&RUNと比べて短時間でタンパク質-DNA相互作用を網羅的に解析できます。 ※詳細はPDFをダウンロードいただき、ご覧ください。 【プライバシーポリシーへの同意】 Cell Si...

メーカー・取り扱い企業： セルシグナリングテクノロジージャパン株式会社

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】

SiC等のデバイス作製に適した高温イオン注入や、ドーパント活性化のため…

BII（Plasma Based Ion Implantation)を使ってカーボンキャップ膜成膜のニーズにもお応え致します。 【掲載内容】 高温イオン注入 キャップ膜成膜 高温アニール処理 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

イオン注入装置のラインナップ

低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。

高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8,000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター