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紫外線照射式+活性炭式でオゾンを分解。半導体や液晶製造プロセスで活躍
分解塔下部のIN側から入り塔内に溜められたオゾン水に溶解しているオゾンを 紫外線ランプ(254nm)の光で分解。さらに、分解塔の後段に設置した 活性炭槽でオゾンの分解を促進します。 半導体や液晶製造プロセスで活躍する製品です。 【標準仕様】 分解原理:紫外線照射式+活性炭式 分解対象液:純オゾン水 分解液温度:20~50℃(周囲温度:15~40℃、90%RH以下) 使...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アプリクス
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