• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 超純水装置『Aquanex』 製品画像

    超純水装置『Aquanex』

    PRセルフサービスデザインによる利便性だけでなく、インテリジェントなユーザ…

    超純水装置『Aquanex』のご紹介です。 【主な特長】 Aquanexシステムユーザーインターフェース ・大型のフルカラーディスプレイは水質やタンク残量を遠くからでもはっきりと確認できます ・採水データをUSBメモリからダウンロード可能 Aquanexタッチスマートディスペンサー ・扱いやすいピペットスタイルのディスペンサー ・ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンで直感的に操作 ・スタンド...

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    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • 【高周波洗浄ユニット:用途例】半導体製造工程 製品画像

    【高周波洗浄ユニット:用途例】半導体製造工程

    出力が低い所でも安定した性能を維持!繊細な部品洗浄にも適しています。

    洗浄にも適しています。 希少金属や、金などをより多く回収し、同時に冶具のクリーン度、 金属イオンの完全除去など様々な周波数の超音波を駆使して 洗浄品質向上をお手伝いします。 【特長】 ■洗浄槽が大型になるケースが多い洗浄槽内で、均一なパワーの分布を実現 ■幅広い出力調整幅で洗浄力を最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ユーシー・ジャパン株式会社

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