• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 【解説資料】粉体設備の課題解決ナビ 製品画像

    【解説資料】粉体設備の課題解決ナビ

    PR粉体の「供給」や「混合」工程の課題解決のヒントとなる情報をご紹介します…

    この冊子は、主にステンレス製のホッパーや設備で粉体を扱うお客様を対象に、工程の課題解決のヒントとなる情報をご紹介します。 内容は以下の3つの柱で構成されています: 1. 基礎的な情報を解説する「コラム」 2. お客様の実際の課題に対してMONOVATE株式会社が提案し、ご採用いただいた「採用事例」 3. お客様の課題をもとに開発した「製品」のご紹介 PDFダウンロードよりすぐにご...

    メーカー・取り扱い企業: MONOVATE(旧:日東金属工業)株式会社 八潮工場

  • 改質実験装置『ASM1101N』 製品画像

    改質実験装置『ASM1101N』

    安全な作業環境を確保!

    『ASM401N』は、設置が簡単な卓上型のUV/オゾン洗浄改質 実験装置です。 特殊形状の低圧水銀ランプを採用し、高出力・高均斉を可能にし、 10mm刻みで照射距離が調整できるので、正確なデータ取りとスピーディな 処理が可能です。 オゾン漏れや紫外線...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社あすみ技研

  • R&D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル 製品画像

    R&D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル

    100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能で…

    172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。 【特徴】 スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。 オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社あすみ技研

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • banner_202410_jp.jpg
  • Final_300_21-CAN-51700 SignalStar MVP 3rd Party Banners_Ad1 A New Star-300x300_v2-JP.jpg

PR