• 異物除去用 格子型マグネット『DGH/DGSシリーズ』 製品画像

    異物除去用 格子型マグネット『DGH/DGSシリーズ』

    PR金属異物を吸着除去し、食品などの信頼性確保に貢献。製粉、製糖ラインなど…

    『DGH/DGSシリーズ』は、ホッパー内や配管内などに取り付けることで、 格子状に並んだマグネットバーの強い磁力により、金属異物を吸着・除去できる異物除去器です。 食品生産ラインなどのコンタミ対策に貢献するほか、 溶接により作られた継ぎ目のない構造のため、クロスコンタミのリスク低減にも貢献します。 また、清掃作業の省力化のニーズに応え、さや管付きの「簡易清掃タイプ」もご用意。 さ...

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    メーカー・取り扱い企業: ダイカ株式会社

  • ミートスライサー『ギャラクシーSライン WPN-G322S』 製品画像

    ミートスライサー『ギャラクシーSライン WPN-G322S』

    PRギャラクシーSライン 高速ミートスライサー最高クラスのギャラクシー …

    ★FOOMAJAPAN2024出展機種★ 新しい「スライサーのスタンダードモデル」誕生。 これまでご好評いただいている使いやすさはそのまま、より安全により効率的に使用いただける進化したギャラクシー。 生産性の向上、生産する商品の品質向上に貢献。...【クオリティパフォーマンス】 「薄切り商品を作りたい」 「いろんな商品を作りたい」 ・信頼がありメンテナンスが容易な丸刃物によるスライスを...

    メーカー・取り扱い企業: ワタナベフーマック株式会社 本社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV-LED照射装置 製品画像

    【小型&軽量】UV-LED照射装置

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。上面と下面から照射が可能で、手…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることで上面及び...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器 製品画像

    12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のI...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~ 製品画像

    【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~

    卓上で使えるコンパクトな硬化装置。上/下両面照射が可能で、手ごろな価格…

    本製品は、上/下両面照射が可能な紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。(※LED照明タイプもございます。) 【特長】 ■上/下両面照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプ寿命は4,00...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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