• 専門ノウハウをプロが伝授!ステンレス鋼と表面処理の基礎知識 製品画像

    専門ノウハウをプロが伝授!ステンレス鋼と表面処理の基礎知識

    PR専門ノウハウをプロが伝授! ステンレス鋼板やステンレス容器の表面処理…

    「ステンレス鋼と表面処理(電解研磨・フッ素樹脂コーティング)の情報満載マル秘ノート」は、MONOVATEで使用しているステンレス鋼やステンレス容器の電解研磨、フッ素樹脂コーティングについてご紹介する資料です。 ステンレス鋼については、記号でSUS304、SUS316、SUS316Lを解説しています。 弊社ではこのステンレス鋼板で容器を作り、主に製薬メーカー様や化粧品、食品、化学薬品製造メー...

    メーカー・取り扱い企業: MONOVATE(旧:日東金属工業)株式会社 八潮工場

  • オールインワンモジュール型 ラボ用遠心分離機 LAC TypeE 製品画像

    オールインワンモジュール型 ラボ用遠心分離機 LAC TypeE

    PR給液タンクやろ液タンクをセットで標準装備。試料の準備だけでOK!かがむ…

    特殊設計の薄型バスケット・透明なケーシングにより濾過過程が目視できるため、開発初期の少量サンプルをさまざまな条件でテスト可能。高価な試料のコストを抑え、実験時間及び開発期間の短縮に貢献します。 ラボ用遠心分離機LAC TypeSをさらに使いやすくモジュール化。今までろ過テストのために準備する必要があった給液タンクやろ液タンクを標準装備。遠心分離機を台車の上にセッティングしているため、かがむなどの...

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    メーカー・取り扱い企業: 松本機械販売株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV-LED照射装置 製品画像

    【小型&軽量】UV-LED照射装置

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。上面と下面から照射が可能で、手…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることで上面及び...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器 製品画像

    12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のI...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~ 製品画像

    【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~

    卓上で使えるコンパクトな硬化装置。上/下両面照射が可能で、手ごろな価格…

    本製品は、上/下両面照射が可能な紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。(※LED照明タイプもございます。) 【特長】 ■上/下両面照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプ寿命は4,00...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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