• 乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈!

    PR不等速2軸に各々配列の撹拌羽根で、付着性が高い対象物も効率よく混練・造…

     新日南『混練・造粒機』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、製品化しました。    混練機『ダウミキサーPX型』は、回転速度が異なる2軸(不等速2軸)にらせん状配列の1条/2条巻の多様なパドル構成(複数特許取得)で、セルフクリーニング効果が常に作用して付着性が高い対象物でも効率よい混練効果と圧密効果が得られます。また、この作用で等速2軸式では避けられない、繰返し応力...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

  • 【書籍】実験の自動化・自律化によるR&Dの効率化(No2230) 製品画像

    【書籍】実験の自動化・自律化によるR&Dの効率化(No2230)

    PR【試読できます】-AI、ロボット技術、ChatGPT、MI、ベイズ最適…

    書籍名:実験の自動化・自律化によるR&Dの効率化と運用方法 --------------------- ☆実験者、熟練度、実験日によるバラツキを削減! ☆「ケタ違いの開発スピード」、「圧倒的なコスト削減」を実現する秘策を大公開! --------------------- ■ 本書のポイント 1.担当者に自発的にデータ入力を促すにはどうするか? 2.異なる形式で散在している実験データの集積...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV-LED照射装置 製品画像

    【小型&軽量】UV-LED照射装置

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。上面と下面から照射が可能で、手…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることで上面及び...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器 製品画像

    12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のI...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~ 製品画像

    【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~

    卓上で使えるコンパクトな硬化装置。上/下両面照射が可能で、手ごろな価格…

    本製品は、上/下両面照射が可能な紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。(※LED照明タイプもございます。) 【特長】 ■上/下両面照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプ寿命は4,00...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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