• MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • インターフェックス出展『ラベル検査装置』『バイアルびん検査装置』 製品画像

    インターフェックス出展『ラベル検査装置』『バイアルびん検査装置』

    PR検査能力は従来製品のままスリムになったラベル検査装置や、AI機能を搭載…

    2024年6月26日(水)から始まる「インターフェックスジャパン」にて ドリンク製品などの高速ラインに対応する検査装置の中からラベル検査装置のデモ機を出展いたします。 併せて「凍結乾燥製剤(バイアルびん)検査」の試作機を展示いたします。 目視検査から自動検査への可能性をご覧ください。 【出展製品】 『新型 ラベル検査装置』 検査能力・機能は従来製品のまま、床スペースを約1/4まで小...

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    メーカー・取り扱い企業: 高嶋技研株式会社

  • アルミイオン注入深さ分析 製品画像

    アルミイオン注入深さ分析

    検出下限を1E16n/cm3に下げることが出来ました。SIMSによる分…

    ムを イオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 アルミニウムの質量数はシリコンと隣接しているため Q ポール型 SIMS では 測定が困難ですが、測定条件を最適化することによって検出下限を 1E16n/cm3に下げることが出来ました。 【注入条件】 ■エネルギー :180keV ■ドーズ量 :1E15n/cm2 (ドーズ量は当社の RBS によって得られた値を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析 製品画像

    SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析

    SiC基板へアルミニウムをBOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介…

    し、電荷の蓄積を抑制することで 正確な測定が行えるようになりました。 アルミニウムの質量数(27)はマトリックスであるシリコン(28)と隣接して いるため、測定条件を最適化することによって検出下限を 6×1015 [atoms/cm3]にまで下げることが出来ました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 砒素イオン注入深さ分析 製品画像

    砒素イオン注入深さ分析

    SIMSによる、シリコンへ砒素をイオン注入した分析結果を紹介。

    るため、質量分解能が 3190 必要です。 Q ポール型 SIMS では質量分解能が 200 程度しかなく、質量分離が困難です。 しかしシリコンと砒素の複合分子イオンを測定することによって検出下限を 2×1015 [atoms/cm3]に下げることが出来ました。 【注入条件】 ■エネルギー :700 [keV] ■ドーズ量 :1×1015 [atoms/cm2] ※詳...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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