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PR工程中に発生する二次凝集品の造粒物(ダマ)をほぐします! 低速回転の…
工程中に発生する二次凝集品の造粒物をほぐします! ランデルミルは粉体処理の中間工程、特にふるい分け・混合・貯蔵・計量・充填操作など単位操作のコンディショニングにも有効です。 さらに、分解・洗浄が容易なのでサニタリー性を要求する食品・医薬品・化学薬品などの解砕に好適です。 【特長】 ・シンプルなワンローラータイプ ・工具なしで分解、組み立てが可能 ・密閉構造で、粉漏れがない ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社徳寿工作所
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無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』
PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…
当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社
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小型基板洗浄機『Ecclear』【小型基板に対する洗浄に最適!】
2インチ未満の小型基板の洗浄・乾燥に特化した小型基板洗浄機!新規材料に…
『Ecclear』は、直径2インチサイズ未満の小径基板を洗浄・乾燥する装置です。独自に開発した小径基板専用の 洗浄・乾燥機構により、高いレベルの清浄度が達成可能になりました。研究開発で使用する小さな基板や、バイオチップ・光学部品・メムスパーツなどの洗浄乾燥に最適です。 【特長】 ■低ダメージで高い付着物除去能力を発揮するブラシを開発 ■遠心力で偏心する乾燥機構(特許番号:WO2015-0...
メーカー・取り扱い企業: Orbray株式会社
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GMP対応横型ピーラー遠心分離機(HZ-PhII)
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三菱化工機株式会社 産業機械