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19件 - メーカー・取り扱い企業
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PR当製品で快適な作業を!無菌操作やプロテオミクスの処理に好適
『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0~100℃、「LABOPAD-H2」は室温+3℃~100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...
メーカー・取り扱い企業: トスク株式会社(旧十慈フィールド)
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ついに販売開始!温風乾燥試験機と新機能搭載の2製品をご案内!
PR『FOOMA JAPAN 2024』に出展!乾燥データ抽出・可視化…
当社は、2024年6月4日(火)~9日(金)に開催される「FOOMA JAPAN 2024」に出展致します。 ついに販売を開始した「温風乾燥試験機」の展示と、新機能を搭載した2製品を技術発表! ■温風乾燥試験機 型番 : RAD-AD-EC80【展示】 ■横流れ式循環型乾燥機 SKH-10【パネル展示】 ■冷風除湿ユニット搭載試験機【展示(技術発表)】 ■横吹き多段ファン式循環型乾燥...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社木原製作所
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シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…
【処理条件】 ■濃度:30%~原液 ■温度:70~105℃ ■時間:20~180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています
【処理条件】 ■濃度:0.5~1% ■温度:常温 ■時間:10~60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能!液疲労が小さく非常…
【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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エナメル電線皮膜を剥離することが可能!塩素系、アミン系の溶剤を含有して…
し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:30~120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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処理面には良好な金属光沢が得られる!化学工業、電子工業などの業界にご使…
【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~50℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています
【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適!有機アルカリタイプ
有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶/200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
コンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能!
ト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶/ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!
フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適!
が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに3~7%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
レー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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添加剤を加えることで液寿命を長くすることが可能!電子工業の業界に使用さ…
【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~40℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適!液性が中性の為、素材を選びま…
中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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