MOE抗体設計アプリケーション

PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社モルシス

電極スラリーの分析によるリチウムイオン電池製造コストの最適化

PRBruker minispecを使用！電池研究と製造のための磁気共鳴

当資料では、Bruker minispecを使用した電極スラリーの分析による リチウムイオン電池製造コストの最適化について解説しております。 Bruker minispecを使用した沈降に対するスラリーの安定性の モニタリングをはじめ、TD-NMRによるスラリーの物理的特性評価 についても掲載。 メーカーがリチウムイオン電池のコーティングプロセスの最適化を 可能にする方法につい...

メーカー・取り扱い企業： ブルカージャパン株式会社 バイオスピン事業部

HEF DURFERRIT JAPAN株式会社　事業紹介

世界の環境・エネルギー問題の改善に貢献するH.E.Fグループ

1953年、フランスにてトライボロジー研究センターとして創業したH.E.Fグループは、物質の表面処理加工に関する多くの技術を開発し、特許を取得、ライセンスを世界中に販売してきました。 更に、近年では樹脂製筐体への表面処理プロセスも開発し、...

メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

「フェムト秒レーザー技術」を表面処理に活用！

表面を高機能化！数ナノメーターから数百ミクロンメーターまで様々な材料の…

HEFはフェムト秒レーザー技術を表面処理に活用、研究開発から工業化までの 垂直統合ビジネスソリューションを提供します。 ミクロンサイズ加工とナノサイズ加工の組み合わせもマルチスケール テキスチャリング。タングステンカーバイドといった高硬度材...

メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社