• 「インターフェックスweek東京2024」に出展のご案内 製品画像

    「インターフェックスweek東京2024」に出展のご案内

    PR東京ビッグサイトで開催される医薬品、化粧品の研究・製造展に出展いたしま…

    株式会社パウレックは、東京ビッグサイトで開催される 「第26回 インターフェックスweek東京2024」に出展いたします。 当展示会は、原料から設備まで、様々な研究・製造が一堂に出展する 医薬品・化粧品・再生医療に関する技術・情報が集う国際展示会です。 皆様のご来場を心よりお待ちしています。 【開催日時】 ■会期:2024年6月26(水)~28(金) ■時間:10:00~...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パウレック

  • MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 実験・研究用マスクアライナー『ES410』 製品画像

    実験・研究用マスクアライナー『ES410』

    ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備!マスクアライナー

    『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

  • 両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』 製品画像

    両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

    ウェハ表裏同時露光!セミオート動作で中ロット生産に対応

    両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

  • 研究室向け簡易マスク作製機『MM605』 製品画像

    研究室向け簡易マスク作製機『MM605』

    ローコストで手軽にマスク製作!多品種のデバイス開発に最適

    『MM605』は1/5縮小露光の研究室向け簡易フォトマスク作製機です。 各種半導体・MEMS微小構造物製作のためには欠かせない フォトマスクは、特に大学・研究所において種類豊富に必要となります。 本装置は研究室レベルで簡単に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

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