• 『薬液供給システム』のご紹介 製品画像

    『薬液供給システム』のご紹介

    1500件を超える多くの実績でお客様満足度の向上に邁進してまいります!

    【その他取扱品目】 ■アンモニア希釈設備 ■その他希釈設備(KOH、シュウ酸他) ■混酸調合設備 ■IPAリサイクル設備 ■定圧ユニット ■硫酸再生装置 ■純水昇圧装置 ■廃液回収設備 ※詳細についてはお問合せください。...

    メーカー・取り扱い企業: 住友ケミカルエンジニアリング株式会社 本社

  • レジスト剥離液『アンラスト M6』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M6』

    ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます

    能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.1D』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

    水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

    1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M10』

    浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

    0kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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