【資料】ファースト・イン・ヒューマン試験の投与量選択戦略

PR「非臨床における毒性および薬理評価」や「ヒト曝露量の予測」について解説…

ファースト・イン・ヒューマン試験の適切な初回投与量を選択するためには、 定量的なアプローチを用いたヒトの薬物曝露や反応の予測が不可欠です。 本ホワイトペーパーでは、4つの要素から構成される投与量選択の概念的 枠組みについて述べ、in vitro データや動物データに基づくヒトへの 外挿に使用可能な手法やツールを概説。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■手探りから始ま...

メーカー・取り扱い企業： サターラ合同会社 日本支社

技術資料『JIS規格「分銅」と製造工程の紹介』

PRJIS分銅の製造から市場供給までの流れをご紹介。JIS規格の概要も解説

当社は、質量計測を主軸とし、天びん・分銅の製造や校正サービスを手掛けています。 100年以上にわたって蓄積したノウハウを元に、高度な技術が求められる 機械式はかりの組立や、1μgレベルの高精度な質量調整・校正が可能です。 本資料では、分銅の信頼性を担保する「JISマーク付き分銅」について紹介。 精度等級や特性評価基準などのほか、製造・検査工程などを紹介しています。 【掲載内容(一...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社村上衡器製作所

半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

技術資料vo.1『信頼性中心保全(RCM)とCMMSとは』

【無料進呈】メンテナンス業務の管理・改善及び効率化に寄与するCMMSや…

vol.2やvol.3では、 ・システム（系）の評価とCMMS/EAMによる管理 ・RCMを支援するためのシステムは、どうあるべきか　　などを紹介予定です！ ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ（CC…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社