【資料】ファースト・イン・ヒューマン試験の投与量選択戦略

PR「非臨床における毒性および薬理評価」や「ヒト曝露量の予測」について解説…

ファースト・イン・ヒューマン試験の適切な初回投与量を選択するためには、 定量的なアプローチを用いたヒトの薬物曝露や反応の予測が不可欠です。 本ホワイトペーパーでは、4つの要素から構成される投与量選択の概念的 枠組みについて述べ、in vitro データや動物データに基づくヒトへの 外挿に使用可能な手法やツールを概説。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■手探りから始ま...

メーカー・取り扱い企業： サターラ合同会社 日本支社

【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ

PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能！　ダマや溶け残りなし・短時間処理…

粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか？ 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で処理ができ、ダマ...

メーカー・取り扱い企業： 関西乳機株式会社

半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

除染ガス発生装置『steriXcure』

養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

ほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き取り作業が不要で、施設の稼働停止を抑制可能 ■メーカーによるBI評価試験でSAL=10^-6以下を達成 ■浮遊する病原体を空気と一緒に吸引しHEPAフィルターで捕集 ■電子機器などを除染可能 ★この度、当社では本製品を使用した除染受託を開始いたしました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

全自動運転に対応！調湿ガス供給装置『Humi Cruise』

結露防止機能で長時間運転を実現！供給用保温ホースとの一体化でコンパクト

【アプリケーション例】 ◎AFM・SPM装置、材料引っ張り試験の加湿試験 ◎燃料電池の評価試験 ◎細胞や有機物の低温高湿試験 ◎水分によって影響のある繊維・紙・毛髪を対象とした試験　…など 【仕様】 加湿方法：飽和槽バブリング方式 加湿源：純水又は精製水 温度範囲 ：+5...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第一科学

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ（CC…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基板上へのフラックス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社