CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素（N2）」を精製！もう大規模な設備…

『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展

PR排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶぶ」は食…

メタン発酵排水処理は酸素のほとんど存在しない環境下で生育する微生物(嫌気性菌)を利用した排水処理法です。処理槽に空気を供給する曝気が不要なため、消費電力を大幅に削減することができます。また、処理に伴い排水中の汚れ(有機物)をメタンガスに変換します。発生したメタンガスは都市ガスと同じ成分であり、ボイラーや発電機の燃料として利用することで従来の燃料(化石燃料)を削減することができます。また、微生物の増...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

ナノ・フレッシャー ※デモ可能

ウルトラファインバブル(UFB)発生装置 溶存酸素濃度１．０ｍｇ/L…

圧通過させることにより気体と水を超微細化混合します。 気体と水が超微細化混合されることでウルトラファインバブルが生成されます。 ウルトラファイン(ナノ)バブルを生成する気体を変えることで、液中の溶存酸素（※1）のコントロールが容易に行えます。 溶存酸素のコントロールとウルトラファイン(ナノ)バブルの作用により水産業の分野であらゆる応用が期待できます。 ◆豊富な製品ラインナップ １００L~５００...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

鮮度保持装置　新鮮保つ君　ウルトラファインバブル(UFB)発生

ウルトラファインバブル(UFB)塩水処理機。 バブルの力で鮮魚の鮮度…

ウルトラファインバブル冷塩水で魚を洗浄することで鮮魚の鮮度を保つ「新鮮保つ君」は、酸素発生装置で生成された酸素と循環水槽底部から給水した塩水を本体ラモンドナノミキサーⓇ（ミキシングユニット）内に加圧通過させることにより超微細化混合します。水と気体を特許技術ラモンドナノミキサーで混合す...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式に...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ナノクイック　※気液、液液、固液混合装置 ※レンタル有

研究開発用。超高密度ウルトラファインバブル(ナノバブル)発生装置 １…

ハニカム構造によるせん断力により高密度にウルトラファインバブル（ナノバブル）を発生させます。 ◆液・液混合が可能 標準仕様で低粘度液・液混合が可能です。 ◆多種の気体・液体混合が可能 空気、酸素、窒素、二酸化炭素は、標準仕様で混合ができます。 ◆微粉体・液混合が可能 乳化、混合が難しいものでも容易に混合ができます。気液混相流。 ウルトラファインバブルを安定的に、高密度で生成可能と...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ウルトラファインバブル（ナノバブル）水　※実験に最適

研究開発用に業界最高水準の平均粒径約１００nm気泡数密度１ミリリットル…

冷暗所保存・3ヶ月経過時で約80％（自社データ）残留しています。 それぞれの気体別に、研究開発を行っています。 細菌抑制・酸化抑制（窒素）、バクテリア培養・水産養殖成長促進・水耕栽培成長促進（酸素）、ウルトラファインバブル（ナノバブル）水洗浄等幅広い用途にお使いいただけます。 ※飲料水ではありません。販売形態は変更されることもございます。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式に...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式に...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社