• CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』 製品画像

    CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

    PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素(N2)」を精製!もう大規模な設備…

    『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • NEXGENグローブボックスシステム(新時代のガス精製装置付) 製品画像

    NEXGENグローブボックスシステム(新時代のガス精製装置付)

    再生ガス・再生工程不要の新時代のガス精製装置付きグローブボックスシステ…

    ・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・酸素濃度、水分濃度1ppm以下を保持、NEXGENシステムによるオートバキ  ューム・オートパージ・全自動圧力コントロール。 ・全世界に2万台以上の導入実績、63年の歴史を誇る世界基準のグローブボ ...

    メーカー・取り扱い企業: 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

  • PSA酸素濃縮器の部品 製品画像

    PSA酸素濃縮器の部品

    PSA酸素濃縮器の部品輸入販売を行っています 規格品なので、手軽に使…

    2本 吸着塔 2、1本 酸素タンク 3、電磁弁 4、各種周辺部品 主要オプション有償部品) 1、モレキュラーシーブ:分子篩ふるい 通称モレシー  ・ナトリウムゼオライト系モレシー 発生酸素濃度 93%  ・リチウムゼオライト系 モレシー 発生酸素濃度 95%  ・活性炭系モレシー 発生窒素濃度 99.9% 2、空圧機:エアー コンプレッサー ヘッド  仕様:酸素濃縮機用 オイル...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アソシエイト トレーディング 土屋 裕 v09018951120 qq3508274141 ttt@zd.wakwak.com

  • VAC・GENESISグローブボックスシステム 製品画像

    VAC・GENESISグローブボックスシステム

    洗練されたシンプルなグローブボックスは使う人を選ばない。再生ガス・再生…

    1.次世代型カートリッジ式ガス精製装置を搭載【特許技術】 2.酸素濃度・水分濃度を1ppm未満に保つ能力があります。 3.洗練されたシンプルな装備は、取り扱いもしやすく使う人を選ばない。  導入時の優れたコストパフォーマンスはもちろん。  メンテナンス簡易...

    メーカー・取り扱い企業: 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

  • モレキュラーシーブ  分子篩 ぶんしふるい 通称:モレシー 製品画像

    モレキュラーシーブ  分子篩 ぶんしふるい 通称:モレシー

    ここでの モレシー は、酸素モレシー です 空気中の 酸素ー窒素 を…

    酸素モレシーには以下の種類があります 1、活性炭系 モレシー 99.9% 2、ゼオライト系 モレシー 93% 3、リチウムゼオライト系 モレシー 95% %は分離された酸素濃度です...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アソシエイト トレーディング 土屋 裕 v09018951120 qq3508274141 ttt@zd.wakwak.com

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • PSA窒素ガス発生装置 製品画像

    PSA窒素ガス発生装置

    産業用途、環境関連に幅広く活用されています。

    用途として下記のような事例がございます。 ◆窒素ボンベの代替用  各種分析機器・科学機器等 ◆食品・医薬品の保存・樹脂成形等  酸化防止・変質防止・脱酸素用 ◆電子機器用   溶接・半田付け処理時の酸化防止等 ◆防爆ガス用  石油・化学工業等...PSA窒素ガス発生装置は、吸着剤として分子篩炭を使用しています。 この分子篩炭は酸素を多量に吸着する性質をもっており、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社IBS

  • イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ 製品画像

    イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

    イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

    TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着(IAD)技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました。...TELEMARK製イオンソースシリーズは、 1. 軽量コン...

    メーカー・取り扱い企業: VISTA株式会社

  • Pbフリー対応BUMP形成用リフロー SMT Reflow 製品画像

    Pbフリー対応BUMP形成用リフロー SMT Reflow

    BGAパッケージから12”ウエーハまで対応できます!

    □BGAパッケージ用は、コンパクトなのに6ゾーン仕様。 □炉内の酸素濃度 100ppm以下を実現。 □面内温度分布: ±2℃。 □触媒装置内臓で炉内浄化に効果。 □ウエーハ搬送は独自開発のウオーキングビーム方式。...

    メーカー・取り扱い企業: 大日商事株式会社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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