アンモニア分解除害装置/吸着再生式排ガス処理装置

本装置は、エッチングプロセス用の湿式除害装置です。
Cl2、HBr、BCl3、HCl、HF、SiF4、etc対象ガスを、
従来の湿式除害では出来なかったTLV値以下まで除去することが可能です。

【特長】
・吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。
・水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。
・水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。
・気液接触部での詰まりが少ない構造です。
・吸着筒の自動交互運転により連続除害が可能です。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

 （詳細を見る）

本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。
常温乾式除害と触媒分解式除害を効率よく組み合わせ、メンテナンス性向上、
ランニングコスト及び環境負荷の低減を可能に致しました。

【特長】
・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。

・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的かつ安全に除害します。

・酸化法によるNH3除害などで問題となるNOxの発生は全くありません。

・火炎式（燃焼式）でない為、プロパン供給設備や排水設備は必要ありません。
　（但し、A20分解筒は水冷式を採用しております。）

・除害後のガス中は除害対象ガス濃度ACGIH/TLV-TWA値以下を保証します。

・吸着再生型は後処理筒の除害剤交換の必要がなく、ランニングコストの低減ができます。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）