CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。
直径：3インチ～12インチ
SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）
SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能）
支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）
＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能です。
＊ウェーハを御支給いただきSOIウェーハへ加工することも可能です。
エナテックはシリコンウェーハ関連品を多数取り扱っており、お客様の御要望に迅速、的確に対応いたします。半導体及び太陽電池製造メーカー等への評価用テストウェーハ・成膜ウェーハ販売(及び再生加工等の受託加工）を主とし、ダミーウェーハの分野においても、国内にSiの選別工程の倉庫を2箇所有し、お客様のニーズにお答えすべく様々な種類のウェーハをご紹介させて頂いております。
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基本情報3インチ～12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」
【SOI特徴】
○3インチ～12インチ対応可能
○少量対応可能
○CZ、FZ対応可能
【エナテック取扱製品】
○CZウェーハ
→国内外1"～450mm(プライム/テスト・モニター/ダミーウェハ）のウェーハ取扱
○FZウェーハ(高抵抗シリコンウェーハ）
→2"～8"(プライム/テスト）の紹介が可能
○各種加工
→成膜加工・シリコン各種加工品（特殊加工・特殊厚み）も対応可能
○その他
→シリコンウェーハの他、化合物半導体、ウェーハ用ケースなど
○LEDライト
→御社のご使用環境に応じて提案可能
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カタログ3インチ～12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」
取扱企業3インチ～12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」
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【主な取扱商品】 テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度・パーティクルチェック用・COP対策品）、コインロールウェーハ、SOI、拡散ウェーハ、ＳｉＧｅ、GaAs、Ｇｅ，サファイア、石英、等。 各種加工｛成膜・グラインダー(50μm以下も可能）ダイシング・サイズダウン・パターニング・Si再生研磨加工・洗浄加工}も対応可能です。 【CZウェーハ】 ■直径は1インチ〜450mmに対応可能 ■成膜加工可能 ■テストパターン付ウェーハ(4インチ〜12インチ）も対応 ■レチクルご支給によるテストパターニング受託も対応 【FZウェーハ】 直径30mmから8インチ、0.1 ohmから10k ohm cmを超えるような高抵抗シリコンウェーハを取り扱っております。製法はノンドープ、ガスドープ、中性子照射品などがあり、高ライフタイム、低酸素・低炭素濃度が特徴です。 【用途例】 □各種試作研究開発 □半導体製造装置評価 □太陽電池ウエハ… シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料も取り扱っております。
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