真空中で使える リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステージ
位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。
20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
基本情報真空対応5nmフィードバックステージ 20mm動作
○5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、
リニアスケールを内蔵していながら薄型で軽量な設計を実現
○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能
○テーブルサイズ:60mm×60mm
○テーブル移動量:20mm
○繰返し位置決め精度:±10nm
○対応真空度:10^-4Pa
○最小分解能:5nm
○最大移動速度:2mm/sec
○対応コントローラ:FC-611
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | FS-1020SPX(V) / FS-1020SPXY(V) |
用途/実績例 | 走査型電子顕微鏡 X線利用技術 超微細加工 精密な位置決めや再現が必要な検査装置や 実験機などに利用されています。 |
カタログ真空対応5nmフィードバックステージ 20mm動作
取扱企業真空対応5nmフィードバックステージ 20mm動作
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