株式会社エナテック 考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス

中性子放射化分析は多元素を同時に正確に定量分析できます。 土壌・鉱物・岩石・堆積物など様々な素材の分析が可能です。

中性子放射化分析のメリット

1)少量の試料(数mg~数g程度)で分析が可能。
2)分析可能な濃度の範囲が広いppmまたはppb(標準でppm)のレベルから数十パーセントの範囲まで分析可能。
3)高精度(不確かさ: 標準4~5%)
4)分析元素の物理的形状や化学的状態に左右されない 同一のマトリックス組成の標準化が不要。

分析可能元素
A) 分析に長時間の照射が必要な元素: Ag, As, Au, Ba, Br, Ca, Ce, Cd, Co, Cr, Cs, Er, Eu, Fe, Ga, Ge, Gd, Hf, Hg, Ho, Ir, K, La, Lu, Mo, Nb, Nd, Os, Pd, Pr, Pt, Rb, Re, Ru, Sb, Sc, Se, Sm, Sn, Sr, Ta, Tb, Te, Th, Tm, U, W, Yb, Zn, Zr
B) 短時間の照射で分析可能な元素: Al, Ca, Cl, Cu, Dy, I, In, Mg, Mn, Na, Rh, Ti, V
C) DNAA法(短時間照射): U

◎詳しくはPDF資料をご覧下さい。

基本情報考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス

主な用途
考古学分野(出土品や遺跡の主成分元素の分析)
宇宙科学分野(隕石の構成元素の分析)
地球環境分野(化石燃料・鉱物・大気浮遊塵の元素分析、植物や土壌に含まれる元素の分析)
医薬品・化粧品(不純物元素混入チェック)
食品(栄養素を構成する元素の割合の分析)
工業・産業分野(例えば高純度Siに含まれる微量の不純物元素の分析)

*分析レポート
分析レポートは、質量分率、不確かさ、及び質量分率を特定できなった場合の検出限界の推定値を含め、編集可能なスプレッドシード(excel形式)でご提供致します。

*分析レポートの納期
A) 分析に長時間の照射が必要な元素:約8-9週間
B及びC) 短時間の照射で分析可能な元素:約2-3週間

*試料に関して
固体及び粉体の形状でご依頼ください。例:鉱物、土壌、食品、生物学的製剤など。容器は硝子の小瓶(鉄やAlの蓋でなく、プラスチックの蓋のもの)又はきちんと密閉できるビニール袋でお送りください。

*試料の処分
原則、試料は照射炉にて廃棄処分致します。

◎詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 中性子放射化分析サービス
用途/実績例 放射化分析の応用例
• Plastics • Soil, rock, coal, ores and minerals
• Plant material • Glass • Catalysts • Difficult elements: halogens, As, Sb, Hg • High purity compounds • Air particulate matter • Human or animal tissue and biopsies• Archaeological and cultural artifacts

具体例
• Precious metals in ore • As, Cd, Cr in plastic • Cl, Br, I in coal
• U, Th, K, Rb in rock • U in ore or phosphate/fertiliser
• Trace elements in food• I in wood/paper • Metals in infant formula

考古学・犯罪化学・工業製品・医学など様々な分野で利用されています。

カタログ考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス

取扱企業考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス

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株式会社エナテック 東京本社

【主な取扱商品】 テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度・パーティクルチェック用・COP対策品)、コインロールウェーハ、SOI、拡散ウェーハ、SiGe、GaAs、Ge,サファイア、石英、等。 各種加工{成膜・グラインダー(50μm以下も可能)ダイシング・サイズダウン・パターニング・Si再生研磨加工・洗浄加工}も対応可能です。  【CZウェーハ】 ■直径は1インチ〜450mmに対応可能 ■成膜加工可能 ■テストパターン付ウェーハ(4インチ〜12インチ)も対応 ■レチクルご支給によるテストパターニング受託も対応 【FZウェーハ】 直径30mmから8インチ、0.1 ohmから10k ohm cmを超えるような高抵抗シリコンウェーハを取り扱っております。製法はノンドープ、ガスドープ、中性子照射品などがあり、高ライフタイム、低酸素・低炭素濃度が特徴です。 【用途例】 □各種試作研究開発 □半導体製造装置評価 □太陽電池ウエハ… シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料も取り扱っております。

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