カルコジェニック株式会社 【資料】SnS極薄膜成膜製作事例
- 最終更新日：2023-06-06 13:28:22.0
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膜厚別にグラフや写真を掲載！それぞれの抵抗率もご紹介しております
当資料では、SnS極薄膜成膜（ソーダガラス基板・50mm角）を製作した
事例をご紹介しています。
145nmをはじめ、88nm、51nm、37nm、30nmの各膜厚のグラフや
写真を掲載。
それぞれの抵抗率もご紹介しておりますので、ぜひダウンロードして
ご覧ください。
【掲載事例】
(1)膜厚145nm
(2)膜厚88nm
(3)膜厚51nm
(4)膜厚37nm
(5)膜厚30nm
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報【資料】SnS極薄膜成膜製作事例
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カタログ【資料】SnS極薄膜成膜製作事例
取扱企業【資料】SnS極薄膜成膜製作事例
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当社は主に硫化スズ材料の開発を行っています。一般的に、硫化スズの結晶構造はグラファイトのような層状構造であることから、2次元材料として、さまざまな電子デバイスへの応用が期待されています、当社が開発した硫化スズ分散液や硫化スズ粉末は、主な使用用途としてリチウムイオン電池や全固体電池等の負極材を想定しています。硫化スズの理論容量は体積あたりで黒鉛の4.7倍、質量あたりで黒鉛の2.1倍となります。さらに、体積あたりの実放電容量においては、当社の硫化スズはシリコン系負極材に並ぶ高容量負極材です。本分散液は当社独自の微細化プロセスを元に水やアルコールに分散が可能です。本粉末は本分散液にアセチレンブラックを添加、均一混合をした材料になります。また、当社の硫化スズナノシートは当社独自に気相プロセスを開発し、成膜したシートになります。主に、低抵抗かつ配向性制御が可能な特徴を持ちます。本シートは、半導体、ガスセンサー等の各種センサー・固体潤滑剤・光触媒・太陽電池・ピエゾ素子等への展開も見込まれています。
