フィルム | イプロス医薬食品技術

PRバイオマスプラスチックフィルムに粘着（糊）加工を施したシール・ラベルの…

国民一人当たりの年間消費量３４０個、世界第２位の “鶏卵消費大国” 日本。その殻は「年間２０万トン」が廃棄されています。中でも業務・加工用に使用された鶏卵の殻は、産業廃棄物として処理されていますが、昨今は “天然の炭酸カルシウム” として肥料や食品原料などへの再利用が進んでいます。この卵殻を微粉末化し、51％の割合でプラスチック素材と混ぜ合わせたバイオマスプラスチック...

メーカー・取り扱い企業：シーレックス株式会社

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで拭き取ることで容易に設備を清掃できます。【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで　拭き取ることで容易...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストのレジスト剥離促進剤です。苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラム...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に適用可能な、工業用洗浄剤です。揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。【特長】 ■フォトマ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液又は純水にて希釈・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／ドラム／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！

『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適したフォトレジスト剥離液です。溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。【処理条件】 ■濃度...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M6』

ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます

『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に対応できます。【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：常温～50℃ ■対象物・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物・鉄・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界・化学工業・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：数～10% ■対象物・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

【その他の特長】 ■対象物：ドライフィルム、ポジレジスト ■使用されている業界：電子工業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！

【その他の特長】 ■対象物：アルミ、ドライフィルム、ポジレジスト ■使用されている業界：電子工業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

【その他の特長】 ■対象物：ドライフィルム、ポジレジスト ■使用されている業界：電子工業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所