• 細胞培養液成分を最大16項目同時測定する分析装置!分析解説資料有 製品画像

    細胞培養液成分を最大16項目同時測定する分析装置!分析解説資料有

    PR【細胞培養液分析解説資料進呈】最大16項目を4分30秒で同時測定・分析…

    『BioProfile FLEX2』は、細胞培養液成分を最大で16項目同時分析可能な細胞培養環境自動分析装置です。 わずか4分半で代謝・増殖・分化などの培養状況を数値化でき「細胞製造プロセスの継続判断」「大量生産を見据えた培養環境づくり」「GMP対応に向けた品質管理・基準の文書化」などの効率化に貢献します。 複数の形状のサンプル容器を備え、必要な検体量は135~265μLと少量。化学物質、ガス測定...

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    メーカー・取り扱い企業: ノバ・バイオメディカル株式会社

  • うま味を残して塩分カット!『セレミオン』を試してみませんか? 製品画像

    うま味を残して塩分カット!『セレミオン』を試してみませんか?

    PR液体食品の減塩でお困りの方に朗報!電気透析装置は常温で不要な塩分だけを…

    AGCグループが開発・製造しているイオン交換膜『セレミオン』による電気透析装置は、膜と電気の働きで溶解中のイオン性物質を分離し、短時間で脱塩・濃縮・回収・分別することができます。 しょうゆ・調味液等の液体食品に含まれる塩分の脱塩・分離がの実績があります。 <無償貸出機について> 小型電気透析装置を2週間無償でお試しいただけます。 導入を検討中の方、ご興味のある方は、ぜひご検討ください。...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • CFRTP製品向け超音波連続溶着装置『株式会社アドウェルズ製』  製品画像

    CFRTP製品向け超音波連続溶着装置『株式会社アドウェルズ製』

    独自の超音波溶着技術によって、従来技術では困難だったCFRTPの連続的…

    超音波連続溶着技術をCFRTP製造プロセスに応用した革新的な製品をラインナップしました。 ■超音波連続溶着装置 SW1000LS 独自の技術によってCFRTP構造体の溶着を行います。 1、スポットではない連続的溶着が可能 2、溶着...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 高精度セミオートFCボンダ『CB-700(アスリートFA製)』 製品画像

    高精度セミオートFCボンダ『CB-700(アスリートFA製)』

    幅広いユーザーニーズに応えるセミオートFCB(フリップチップボンダ)

    ョンに対応し、R&Dのニーズに幅広くお応えします。 【特長】 ■極低荷重対応、高精度ボンディング ■高精度Z軸制御を生かしたツールの引き上げ動作 ■ツール交換で超音波接合にも対応 ■プロセス開発に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ブルーレーザフラックスレスソルダリングシステム 製品画像

    ブルーレーザフラックスレスソルダリングシステム

    青色の光ブルーレーザがはんだ付けの世界を変える!これまで困難であったは…

    また、パルス波とCW波の発振も可能で、パルス波でキャピラリ内の はんだを素早く溶融させ、はんだの酸化を抑制。 CW波によりプリヒートとアフターヒートができ、対象ワークに合わせた 幅広いプロセスに対応可能です。 【特長】 ■高品質でダメージのないフラックスレスはんだ付けを実現 ■フラックス洗浄工程の削減が可能 ■接合部周辺への熱ダメージを軽減する事が可能 ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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