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    【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ

    PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…

    粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌(撹拌)する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌(撹拌)を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で...

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    メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    【仕様】 ■排気系:ロータリーポンプ(ターボポンプ御要望の場合は別途御相談下さい) ■試料ステージサイズ:20 × 40 ■試料ステージ回転機構:ステッピングモーター(回転速度可変可能) ■真空計:ピラニー真空計 ■レーザー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 水素還元雰囲気炉『lZR-1600』 製品画像

    水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

    6打点式(ハイブリット型)!水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

    ) ■雰囲気:真空、不活性ガス(H、N、Ar) ■ヒートエレメント:タングステンロッド ヒーター ■ヒートシールド:モリブデン ■制御:デジタルプログラムPID制御 ■排気系:ロータリーポンプ・油拡散ポンプ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    100mmH ■温度:常用 1500℃ ■真空度:×10^-1Pa ■雰囲気:Ar O2 ■ヒートエレメント:SiCヒーター ■制御:デジタルプログラムPID制御 ■排気系:ロータリーポンプ ■真空計:ピラニー真空計 ■電源:20KVA ■冷却水:3L/min ■重量:200Kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    【仕様】 ■真空排気:ターボポンプ ■ヒーター:SiC MAX1200℃ ■水冷:外周蛇管 上フランジジャケット ■外寸:φ360 x 500H ■内面処理:電解研磨 ■ガスケット:金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    【仕様】 ■マイクロ波出力:1.5Kw ■排気:ロータリーポンプ ■導入ガス:5系統(配管加熱付き) ■温調:試料ステージ試料加熱(4系統) ■配管加熱(2系統) ■真空計:バラトロン ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    小型加圧ホットプレス

    高分子材料用の簡易なホットプレス!軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

    【仕様】 ■温度:MAX300℃ ■最大加圧:500Kgf ■ロードセル:500Kgf ■吸着用ポンプ:20L/min(ダイヤフラム式) ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 磁場中加熱炉 製品画像

    磁場中加熱炉

    従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱…

    能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ) ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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