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無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途(プラズマアシスト蒸着)や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFを...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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ダメージレス蒸着
日本電子株式会社 BS-60310BDS ボンバード蒸着源 蒸着材料を充填したライナーの裏面に、電子ビームを照射し、電子衝撃 (ボンバード) によりライナーを加熱します。蒸着材料には直接電子ビームを当てません。 〇特長 ・間接加熱方式 ・成膜中の反射電子ダメージとX線ダ...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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