排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展

PR排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶぶ」は食…

メタン発酵排水処理は酸素のほとんど存在しない環境下で生育する微生物(嫌気性菌)を利用した排水処理法です。処理槽に空気を供給する曝気が不要なため、消費電力を大幅に削減することができます。また、処理に伴い排水中の汚れ(有機物)をメタンガスに変換します。発生したメタンガスは都市ガスと同じ成分であり、ボイラーや発電機の燃料として利用することで従来の燃料(化石燃料)を削減することができます。また、微生物の増...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

そのダマ、『解砕機 ランデルミル』がほぐして解決します！

PR原料や工程で発生するダマ(凝集塊)で困っていませんか？分解・清掃が容易…

当社のランデルミルは、回転するローターの衝撃とせん断でパンチングスクリーンの穴径以下にダマをほぐします。 工程中に発生する二次凝集した塊状物をほぐしたり、紙袋やフレコンなど原料中のダマをほぐし生産工程をスムーズに稼働させます。 粉体処理の工程、特にふるい分け、混合、乾燥、輸送、粉砕、計量等のコンディショニングに有効です。 また、やむなく人手でほぐし作業をされている場合、機械化することで人件費...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社徳寿工作所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

『アンラスト 70』は、短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の 心配のない鉄鋼用アルカリ除錆剤です。 フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤として効果的。 シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりませ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

処理面には良好な金属光沢が得られる！化学工業、電子工業などの業界にご使…

『マストーバ C-365A』は、銅・銅合金用の化学研磨液です。 研磨後の表面平滑性に優れ、処理面には良好な金属光沢が得られます。 処理方法は、浸漬、液中スプレー等での使用を推奨します。 【特長】 ■研磨後の表面平滑性に優れている ■処理面には良好な金属光沢が得られる ■処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ロー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所