• 人工気象器<クローズド型>疑似太陽光SUNRAY LIGHT搭載 製品画像

    人工気象器<クローズド型>疑似太陽光SUNRAY LIGHT搭載

    PR調光仕様です。アラビの育成など植物の耐環境試験に!対話式液晶パネルで操…

    スタンダードなクローズド型人工気象器に疑似太陽光 蛍光灯型LED「SUNRAY LIGHT」照明を標準装備した省エネモデルです。 短日処理、日長処理等研究に応じた環境制御が行えます。制御方法は定値運転と昼夜切替運転の切替式とプログラム制御の2タイプがあります。 プログラムの時間設定は、「積算方式」と「実時刻方式」から選択できます。温度・湿度制御は3位置方式を採用しており、省エネ効果があります。サイ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本医化器械製作所 本社

  • インジェクション式レトルト殺菌装置 特長2 製品画像

    インジェクション式レトルト殺菌装置 特長2

    PR製品が動かない!

    『熱水インジェクション式レトルト殺菌装置』は、製品に直接熱水を吹き掛けない他に類の無い独特な殺菌方式の採用により、群を抜いた温度・圧力の安定性を誇ります。その構造から生まれるメリットをご紹介します。 直接熱水が当たらないため、トレー上で製品が移動しません。 直接当たらないことによるメリットはたくさん! ・製品が動かない ・アンロードミスを防ぐ ・ピンホールを防ぐ ・トップシール...

    • 殺菌後 パウチに乱れ有り.png
    • 殺菌後 パウチに乱れ無し.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社神垣鉄工所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト R510』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト R510』

    剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:90~110℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/1tコンテナ/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

    水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』 製品画像

    鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

    シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…

    【処理条件】 ■濃度:30%~原液 ■温度:70~105℃ ■時間:20~180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 防・除錆剤『アンラスト CK』 製品画像

    防・除錆剤『アンラスト CK』

    常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています

    【処理条件】 ■濃度:0.5~1% ■温度:常温 ■時間:10~60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』 製品画像

    銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

    処理面には良好な金属光沢が得られる!化学工業、電子工業などの業界にご使…

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~50℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

    漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

    鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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