• なぜおこる?袋体が固まる理由と対処策方法 製品画像

    なぜおこる?袋体が固まる理由と対処策方法

    PR素材別粗砕実績表進呈中!粗砕機を使って固結した袋体材料をらくらく粉砕処…

    “なぜ袋体は固まるのか”ご存知でしょうか? 固結には、真正固結と疑似固結の2種類があります。 含水率や吸湿性などの内部的要因や、大気の相対湿度や包装時の温度などの外部的要因等が原因に御座います。 シンコー化成が取り扱う『モミクラ』は、固まった粉体材料を袋や段ボールから出さずに1袋あたり4秒で粉に戻せる袋体粗砕機です。 オイルをさすだけの楽々メンテナンス。人による粗砕作業をカット...

    メーカー・取り扱い企業: シンコー化成株式会社

  • インジェクション式レトルト殺菌装置 特長2 製品画像

    インジェクション式レトルト殺菌装置 特長2

    PR製品が動かない!

    『熱水インジェクション式レトルト殺菌装置』は、製品に直接熱水を吹き掛けない他に類の無い独特な殺菌方式の採用により、群を抜いた温度・圧力の安定性を誇ります。その構造から生まれるメリットをご紹介します。 直接熱水が当たらないため、トレー上で製品が移動しません。 直接当たらないことによるメリットはたくさん! ・製品が動かない ・アンロードミスを防ぐ ・ピンホールを防ぐ ・トップシール...

    • 殺菌後 パウチに乱れ有り.png
    • 殺菌後 パウチに乱れ無し.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社神垣鉄工所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト R510』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト R510』

    剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:90~110℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/1tコンテナ/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』 製品画像

    工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』

    結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度(%):原液 ・温度(℃):常温 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・500ml~10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

    水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』 製品画像

    鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

    シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…

    【処理条件】 ■濃度:30%~原液 ■温度:70~105℃ ■時間:20~180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 防・除錆剤『アンラスト CK』 製品画像

    防・除錆剤『アンラスト CK』

    常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています

    【処理条件】 ■濃度:0.5~1% ■温度:常温 ■時間:10~60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト CB』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト CB』

    アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能!液疲労が小さく非常…

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『マストーバ SC』 製品画像

    工業用洗浄剤『マストーバ SC』

    配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…

    【処理条件】 ■濃度(%):原液 ■温度(℃):常温 ■時間:15分~2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト EW-R』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト EW-R』

    エナメル電線皮膜を剥離することが可能!塩素系、アミン系の溶剤を含有して…

    し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:30~120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』 製品画像

    銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

    処理面には良好な金属光沢が得られる!化学工業、電子工業などの業界にご使…

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~50℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』 製品画像

    アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

    混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト M11』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト M11』

    鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適!有機アルカリタイプ

    有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶/200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

    漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

    鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M10』

    浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

    コンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

    ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能!

    ト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶/ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

    キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

    適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

    浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!

    フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト RMO-C』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト RMO-C』

    苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適!

    が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに3~7%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

    浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

    レー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M6』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M6』

    ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます

    です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト MP』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト MP』

    溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

    です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ IC4』 製品画像

    銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ IC4』

    添加剤を加えることで液寿命を長くすることが可能!電子工業の業界に使用さ…

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~40℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.1D』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

    水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

    します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト RMO-K』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト RMO-K』

    溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

    溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 塗装剥離液『アンラスト CA』 製品画像

    塗装剥離液『アンラスト CA』

    鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適!液性が中性の為、素材を選びま…

    中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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