【動画あり】抗バイオフィルム試験　評価方法事例

PR抗バイオフィルム試験(ISO4768)準拠試験、様々な目的に沿った分析…

当社で行っている「抗バイオフィルム試験」についてご紹介いたします。 「洗浄液などのバイオフィルムの分解効果を評価したい」「サンプルの バイオフィルムを作らない最小濃度を決めたい」などの目的に沿った バイオフィルムに関連した評価試験をご提案。 また、分析で使用する菌種は、大腸菌をはじめ、緑膿菌、黄色ブドウ菌、 表皮ブドウ菌、ミュータンス菌ですが、その他の菌種での分析や採取 した菌...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社同仁グローカル

無償テスト受付中！セレミオンでイオンの分離・精製しませんか？

PRイオン交換樹脂のような再生処理不要！100V電源があれば大丈夫！しかも…

ＡＧＣグループが開発・製造している『セレミオン』による電気透析装置は、イオン交換膜と電気の働きで溶解中のイオン性物質を分離し、短時間で脱塩、濃縮、回収、分別することができます。 DHA・EPA等の食品成分やキトサン・タウリンなどの医薬、化粧品成分から不要なイオンの脱塩・分離が可能です。 ＜無償テストについて＞ サンプル液を送付いただければ、脱塩テストを無償で実施し、脱塩されたサンプルは返...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

【処理条件】 ■濃度：30％～原液 ■温度：70～105℃ ■時間：20～180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ローリー ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

処理面には良好な金属光沢が得られる！化学工業、電子工業などの業界にご使…

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～50℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

【処理条件】 ■濃度：0.5～1％ ■温度：常温 ■時間：10～60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温～50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所