• NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】 製品画像

    NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】

    PRトリプル回転機構を採用!目的に応じたオプション製作も可能で、テスト対応…

    『NEWマイクロミックス』は、臼の回転とは逆方向に公転する杵と 自転する杵先により、効率の良い撹拌、混合、すり潰しが可能な 真空加熱(冷却)式の製品です。 独自の回転スクレーバーによって粉砕効率も大幅アップ。 また、真空ポンプを搭載することで、容器内を減圧した状態で 撹拌ができます。 【特長(主な機能)】 ■「トリプル回転機構」により、効率の良い攪拌・粉砕・混合が可能 ■原料を運び込みながら...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤナギヤ 東京営業本部

  • 真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ 製品画像

    真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ

    処理可能基板サイズ550×650mm。無廃液化・低ランニングコストを実…

    の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化,無廃液化 ○低ランニングコスト ○処理可能基板サイズ550×650mm その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • 平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置 製品画像

    平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置

    各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基(親水、親油、密着性…

    「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • 真空装置 平行平板評価用プラズマ処理装置   製品画像

    真空装置 平行平板評価用プラズマ処理装置  

    半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

    研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、APCを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○8,12インチ用装置...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • サンプル形状を選ばず、自由に処理!バレルタイプ プラズマ処理装置 製品画像

    サンプル形状を選ばず、自由に処理!バレルタイプ プラズマ処理装置

    微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能!溶液を使用せずに洗…

    バレルタイププラズマ処理装置「PBシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • 応用例付きプラズマ技術資料 無償ダウンロード! 製品画像

    応用例付きプラズマ技術資料 無償ダウンロード!

    基板、樹脂、粉体、医療、半導体…。あらゆる分野で使えるプラズマ技術の応…

    【プラズマ装置ラインナップ】 ■バレル式 真空プラズマ装置 →対象物の形状を問わず使える ■平行平板式 RIEプラズマ装置 →中型基板・フィルムの処理に最適 ■真空プラズマ粉体攪拌処理装置 →粉体の表面改質に ■ハンディ式 大気圧プラズマ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ 製品画像

    バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ

    等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最…

    バレルタイププラズマ処理装置「PBシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

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