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  • MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社モルシス

  • 「インターフェックスweek東京2024」に出展のご案内 製品画像

    「インターフェックスweek東京2024」に出展のご案内

    PR東京ビッグサイトで開催される医薬品、化粧品の研究・製造展に出展いたしま…

    株式会社パウレックは、東京ビッグサイトで開催される 「第26回 インターフェックスweek東京2024」に出展いたします。 当展示会は、原料から設備まで、様々な研究・製造が一堂に出展する 医薬品・化粧品・再生医療に関する技術・情報が集う国際展示会です。 皆様のご来場を心よりお待ちしています。 【開催日時】 ■会期：2024年6月26(水)～28(金) ■時間：10：00～...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

  • GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置 製品画像

    GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置

    コンパクト構造で、シンプルで低価格な設計になっています。超平坦化加工と…

    ビーム照射可能 ・N2, O2, CO2, SF6, CF4, CHF3, B2H6 ○自由度 ・ガスクラスターイオンビーム装置設計時からお客様のご要望を可能な限り反映させ、お客様だけの特注の研究・量産設備に仕上げる ・GCIBアシスト蒸着装置製作も対応可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

  • イオンビームスパッタリング装置 製品画像

    イオンビームスパッタリング装置

    RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

    お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ...

    メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

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