• 【分析事例】ポリイミド成分の深さ方向分析 製品画像

    【分析事例】ポリイミド成分の深さ方向分析

    TOF-SIMSによる高分子・樹脂・フィルムの表面改質層の深さ方向の評…

    ポリイミドは非常に耐熱性が高く電気絶縁性も優れていることから、電子部品をはじめとして様々な分野で用いられている材料です。表面改質を行うことで他の材料との密着性を高めることができることから、改質層の状態を把握することが重要です。今回、有機成分が壊れにくいスパッタ条件にてTOF-SIMS測定を行い、深さ方向にポリイミド成分を評価しました。GCIB(Arクラスター)をスパッタに用いると着目する有機成分を...

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  • 【分析事例】TOF-SIMSによる毛髪の評価 製品画像

    【分析事例】TOF-SIMSによる毛髪の評価

    目的に応じた毛髪成分の評価が可能です

    TOF-SIMSは元素分析と有機物・無機物の分子情報の解析が同時にでき、またイメージ分析が可能であることから、試料中の着目成分の分布・浸透具合の解析に有効な手段です。 毛髪に対して測定法と加工を組合わせることで、毛髪の表面や断面、深さ方向への分布と様々な視点からの評価が可能で、目的に応じた毛髪中の成分比較や浸透性評価を行うことができます。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • 【分析事例】Siウエハ表面の金属汚染評価 製品画像

    【分析事例】Siウエハ表面の金属汚染評価

    ICP-MS:誘導結合プラズマ質量分析法

    ICP-MSを用いたSiウエハ表面の金属汚染評価の目的には、Siウエハ自体の汚染評価以外にも、半導体装置内の汚染評価、Siウエハ暴露による作業環境場の評価などもあり、Siウエハ表面の分析は様々な目的で行われます。ICP-MS分析ではSiウエハ表面の金属汚染量を高感度に取得でき、さらに目的に応じて評価領域を指定することも可能です。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • 【分析事例】XPSによるμmオーダーの深さ方向分析 製品画像

    【分析事例】XPSによるμmオーダーの深さ方向分析

    数μmの深さまで深さ方向分析を行います

    XPSは表面敏感な手法でありサンプル表面の評価に広く用いられますが、イオンエッチングを併用することで深さ方向の分析が可能です。 XPSでは深さ方向の組成分布に加えて結合状態の評価も可能なため、装置部材表面の変色の原因調査などに適しています。 本資料ではターボ分子ポンプの羽の変色部について、XPSで評価した事例を紹介します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • 【分析事例】特殊形状試料のSIMS測定 製品画像

    【分析事例】特殊形状試料のSIMS測定

    固定方法の工夫により特殊な形状でも分析可能

    通常、SIMS測定では数mm角で表面が平坦なチップを用いて分析を行いますが、1mm 角以下の小さなチップや特殊な形状の試料についても固定の前処理を施すことで分析が可能です。 微量成分を調べたい試料の中には、微小チップやワイヤー状試料など、通常では分析には適さない形状のものがあります(図1)。このような試料では固定を行った後に分析を行います(図2)。他にも試料の断面や側面、特殊な形状の試料において...

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  • 【分析事例】プリント基板上有機物系異物の評価 製品画像

    【分析事例】プリント基板上有機物系異物の評価

    適切なサンプリングと顕微測定で異物周辺情報の影響を軽減

    サンプリングを併用した顕微FT-IR分析が有効な異物の評価事例を紹介します。 下地の影響がほとんど無い電極上異物はフラックスと同定されましたが、プリント基板上異物からは異物由来の情報が取得できませんでした(図1)。無機結晶上にサンプリングを行うことで異物の情報が得られ、異物はフラックスと同定されました(図2)。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • 【分析事例】STEM,EBSDと像シミュレーションを併用した解析 製品画像

    【分析事例】STEM,EBSDと像シミュレーションを併用した解析

    像シミュレーションを併用した結晶形の評価

    高分解能HAADF-STEM像は、結晶の原子配列を反映した画像であることから、種々の結晶方位に対応したSTEM像をシミュレーションすることにより、多結晶体中の結晶粒間の相対方位や観察像の正確な理解に役立ちます。 本資料では、多結晶体であるネオジム磁石中の結晶粒について、EBSD法で得た結晶方位の情報からSTEM像をシミュレーションし、実際の高分解能HAADF-STEM像と比較した事例を紹介します...

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  • 【分析事例】高温XRDによる熱分解生成物の同定 製品画像

    【分析事例】高温XRDによる熱分解生成物の同定

    昇温しながらXRD測定が可能

    材料が昇温に伴って化学反応・相変化を経て結晶構造に変化が起こる場合、昇温しながらXRD測定を行うことが有効です。高温XRD測定を行うことで、硫酸銅五水和物の熱分解生成物の同定を行った事例を紹介します。測定の結果、熱分解が起こる温度で回折ピークが変化し、結晶構造が変化する様子を明瞭に確認できました。 MSTでは昇温しながらOut-of-plane XRD測定・In-plane XRD測定を行うこと...

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  • 【分析事例】SNDMおよびSMMによる拡散層評価 製品画像

    【分析事例】SNDMおよびSMMによる拡散層評価

    SiCデバイスの拡散層のp/n極性とキャリア濃度分布を評価できます

    近年、高耐圧デバイスの材料としてSiCが注目されています。Trench MOSFET構造は素子の高集積化が可能であり、SiCデバイスへの応用展開も進められています。一方、SiCデバイスのドーパント活性化率には課題があり、出来栄え評価が重要となります。今回、SiC Trench MOSFETに関して、SNDM(走査 型非線形誘電率顕微鏡)にてキャリア極性判定をSMM(走査型マイクロ波顕微鏡法)にてキ...

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  • 【分析事例】Si基板へのAl,Gaの拡散評価 製品画像

    【分析事例】Si基板へのAl,Gaの拡散評価

    SSDP-SIMSによる高濃度層の影響を避けた測定

    コスト低減の観点から、GaNを材料としたパワーデバイスの基板には高抵抗Si基板の活用が期待されています。しかしながら、高温で成膜する際にAl,GaがSi基板表面に拡散してしまうと、低抵抗層が形成されリークの原因と言われております。 そこで、Si基板中へのAl,Gaの拡散の有無を評価するため、SIMS分析を行った事例をご紹介します。 微量の拡散を正確に評価するため、Si基板側からGaN層に向けて...

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  • 【分析事例】SiN膜中の金属汚染評価 製品画像

    【分析事例】SiN膜中の金属汚染評価

    ICP-MSによる高感度分析

    Siウエハ上のSiN膜(Si3N4)を溶解した溶液中には、着目している不純物金属元素以外に膜由来のSiマトリックスが含まれています。そのため、溶解した溶液そのものでは精度よく高感度分析ができません。 そこで、Siウエハ上のSiN膜を溶解後、別途処理を施すことでSiマトリックスの影響なくSiN膜中不純物金属元素の分析を可能としました。市販品のSiN膜付きSiウエハを用いてICP-MSによる高感度分...

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  • 【分析事例】熱履歴を考慮した異物の成分同定 製品画像

    【分析事例】熱履歴を考慮した異物の成分同定

    熱履歴を揃えた標準試料の活用提案

    ポリプロピレン(PP)などの高分子材料は、大気中で加熱されると大気中の酸素や水分と反応し、分子構造が変化します。そのため、異物や付着物が高分子材料の可能性がある場合、測定サンプルと同じ環境で処理した標準物質を比較データとして用いる必要があります。 熱処理(200℃/30分)によってPP標準物質がどのように変化するかを調べるため、FT-IR及びTOFSIMS測定を行いました。...詳しいデータは...

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  • 【分析事例】溶液中の金属量調査 製品画像

    【分析事例】溶液中の金属量調査

    純水やウエハ洗浄液等、様々な溶液の高感度分析が可能です

    ウエハ洗浄工程で使用した洗浄液中の金属量や、装置や建屋に併設された配管内を通る純水中の金属量など、ICP-MSは溶液中の金属量を高感度に分析することができます。また、溶液の種類も純水・酸・アルカリ等、各種対応でき、分析する金属元素の濃度領域はpptオーダーから主成分レベルまで幅広く対応することが可能です。本資料では市販されている各溶液に含まれる金属量を調査した事例をご紹介します。...詳しいデータ...

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  • 【分析事例】TDSによるグラフェンの脱ガス分析 製品画像

    【分析事例】TDSによるグラフェンの脱ガス分析

    炭素材料中の官能基や不純物などに起因する脱ガスについて評価可能です

    グラフェンの電子放出素子への応用や、カーボンナノチューブへの水素貯蔵など、炭素材料は真空中での用途が増えてきています。そのため真空中での炭素材料からの脱ガスを評価することは、今後の炭素材料の応用の上で重要なポイントとなります。 本事例では真空中において試料からの脱ガスが評価できるTDS(昇温脱離ガス分析法)でグラフェンからの脱ガス分析を実施した事例を紹介します。...詳しいデータはカタログをご覧...

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    【分析事例】AESによるボンディング界面の元素分析

    加工を併用することで界面の元素分析が可能

    AES分析は最表面(~深さ数nm)の組成情報や元素分布を得る手法ですが、断面加工を併用することで、層構造内や構造界面でも同様の情報を得ることができます。合金層や元素拡散・偏析等の評価が可能であるため、デバイスの故障解析や不具合調査等に有効です。 以下にワイヤボンディングの接合部界面近傍の状態を評価するため、IP加工にて断面を出し、AES分析により評価した事例をご紹介します。...詳しいデータはカ...

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