窒素パージ | イプロス医薬食品技術

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、卓上型真空プロセス高速加熱炉です。最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社

窒素パージシリンダホッパ VHCN6　（ラボプラストミル用）

混練・押出成形評価試験装置ラボプラストミル用のミキサー付属装置（オプシ…

試料を窒素パージ状態あるいは真空状態（絶対圧力5kPa、max250℃）でシリンダで加圧しながら試験できるホッパー。（No.2ブロックは丸穴式になります）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東洋精機製作所

プログラム式温度コントローラー「PCC107FL3」

窒素パージホットプレートと合わせ、精密温度プロセスを低価格にて実現でき…

グラム式温度コントローラー「PCC107FL3」は、フラックスレスはんだ付け用ホットプレ－トに適合したコントローラーです。３流路低酸素濃度プロセス向けです。株式会社MSAファクトリーの窒素パージホットプレートと合わせ、精密温度プロセスを低価格にて実現できます。【特徴】 ○窒素ガスデジタル流量計（3流路）付温度コントローラー ○一定温度タイプ　は、PCC100FL3 ○窒素...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

0395　粒状燃料の酸化防止Ｎ2パージ用に

円筒形タンクの槽底にブローディスクを設置していただいた事例

ブリッジやラットホールの解消目的とは異なるご採用例です。内容物は粒から数mm程度の燃料で、酸化による発熱防止のため窒素ガスパージを行う必要があるのですが、タンク内に均一にガスが行き渡ることを期待してブローディスクをご採用いただくこととなりました。基本的に常時ガスパージを希望されましたが、常時ガスを流すとなると消費量が多大になりますし、かといってパージ圧力を絞るとガスの拡散にもマイナ...

メーカー・取り扱い企業：ミナギ株式会社

「Ti,Zr,W,Mo,Ta,Nb,Hf合金中の酸素・窒素分析」

Ti,Zr,W,Mo,Ta,Nb,Hf合金中の酸素・窒素分析のレポート

LECOジャパンでは、LECO社の分析装置でお客様の分析業務がより高精度化、効率化、安全性を図れるであろうサンプルをピックアップしスペシャルレポートとしてご案内いたします。是非ご覧ください。また、類似のサンプルに応用できるかがお知りになりたい場合は、気兼ねなくお問い合わせください。...【分析条件】 ○ルツボ：高温タイプ（P/N782-720） ○フラックス：ニッケルバスケット（P/N502-...

メーカー・取り扱い企業： LECOジャパン合同会社

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-200シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するた...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-100シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するた...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-400シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するた...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-300シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するた...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-500シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するた...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部