分析ワークフローを自動化・リモート化！新製品のアジレントＨＰＬＣ

PR【自動化・DXを加速】インテリジェンス機能を持ったAgilent In…

新製品 Agilent Infinity III LCは、 分析ワークフローを自動化・リモート化し、 お客様のラボをスマートにする液体クロマトグラフです。 定型業務、付帯業務を効率化し、R&D、クリエイティブな仕事に 注力でき、ヒューマンエラーとストレスを減らします。 【特長】 ■自動化・リモート化 　移動相の取り扱いからサンプル管理まで、日常的な作業を効率化。 　居室や自宅か...

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

超純水装置『Aquanex』

PRセルフサービスデザインによる利便性だけでなく、インテリジェントなユーザ…

超純水装置『Aquanex』のご紹介です。 【主な特長】 Aquanexシステムユーザーインターフェース ・大型のフルカラーディスプレイは水質やタンク残量を遠くからでもはっきりと確認できます ・採水データをUSBメモリからダウンロード可能 Aquanexタッチスマートディスペンサー ・扱いやすいピペットスタイルのディスペンサー ・ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンで直感的に操作 ・スタンド...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜 ・PBII（Plasma Based Ion Implantation) 　カーボン成膜が可能 ・スパッタ 　電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA（Rapid thermal annealing） 　縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

イオン注入装置のラインナップ

低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。

室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8,000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。...※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

今さら聞けない【半導体の基礎知識】～イオン注入～※イラスト解説

半導体の特性の決め手となるイオン注入の一連の流れをイラストを用いて解説…

当資料では、イオン注入の基礎として、目的、装置、その評価についてイラストにてご紹介しています。 株式会社イオンテクノセンターでは、研究開発のためのサンプル作製から 量産請負まで、半導体の前工程のプロセスの受託サービスを行っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター